Dual-Beam Rasterelektronenmikroskop mit fokussiertem Ionenstrahl (Focused Ion Beam) der Firma Zeiss (AURIGA®-CrossBeam® Workstation):

• Hochauflösendes Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop mit diversen Detektoren (Sekundärelektronen-, Rückstreuelektronen-, STEM-, Sekundärionen-, InLens- und EBSD-Detektor)
• Focussed Ion Beam (Cobra-Orsay-Physics)
• Gasinjektionssystem für Bedampfung/Bearbeitung mit unterschiedlichen Substanzen (Graphit, Platin, Jod, Wasserdampf) und Ladungskompensation zur Analyse von nichtleitenden Proben
• Energiedispersives Röntgenanalysesystem (EDX)

Rasterelektronenmikroskop mit großer Probenkammer der Firma Zeiss (EVO MA 25®):

• Rasterelektronenmikroskop mit LaB₆-Kathode und Niederdruckmodus (u.a. gut geeignet für die Analyse von nicht leitenden und verunreinigten (z.B. ölbehafteten Proben)
• Große Probenkammer für die Untersuchung von Bauteilen und großen Proben: Probengewicht mit voller Kippmöglichkeit bis 2,5 kg, Probenhöhe bis ~ 100 mm; Probengewicht ohne Kippen > 5 bis ~ 10 kg (bei max. Höhe bis ~ 210 mm)
• Sekundär- und 5-Quadranten-Rückstreuelektronendetektor
• Energiedispersives Röntgenanalysesystem (EDX)
• 3D-Oberflächentopographie-Software der Firma Alicona (MeX)